裝置特色|體表/壓力/阻抗即時監測+強冷卻

400W 雙模式|即時阻抗回饋|最高 11 段冷卻設計
以下以大圖清晰呈現:裝置特色、一次擊發流程、熱場分佈、劑量建議、與一般單極電波比較,並附衛教與常見問題。













具備 G/X 雙模式與 GXG 分層加熱,並整合 OSCA™ 能量控制與多段冷卻設計,追求更全面且穩定的熱效應與體感。
多段冷卻與震動模式可降低不適,一般不需麻醉;治療中可即時回饋體感,由醫師視需要微調能量。
全臉約 30–40 分鐘,視治療區域與擊發數而異。
300 發多用於局部小範圍;600 發適合半臉;900 發適合全臉或重點區域。實際發數需由醫師評估後客製。
妊娠/哺乳、局部感染或傷口、重大器官功能不全、植入電子裝置、對局麻過敏,或 3 個月內剛做注射/埋線者等,需先與醫師評估。
多為短暫泛紅,當天可消退;術後一週避免飲酒/菸與劇烈運動,注意保濕與防曬。
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